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	網格陣列位于50mm×50mm,1.5mm厚度的玻璃基底上(玻璃基底上真空濺射低反射率的鉻制成),100µm、250µm、500µm、1000µm和2000µm網格間距,25×25陣列。
	網格分布用于決定成像系統(tǒng)的畸變。理想情況下,網格的水平和豎直線是垂直的,畸變圖像會在線上顯示扭曲,這種圖像可以用于修正畸變。
	
	
訂購信息:
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					貨號  | 
			
				 
					產品描述  | 
			
				 
					規(guī)格  | 
		
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					R1  | 
			
				 
					Grids with line pitch of 2000微米,間距2000微米  | 
			
				 
					個  | 
		
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					R2  | 
			
				 
					Grids with line pitch of 1000微米,間距1000微米  | 
			
				 
					個  | 
		
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					R3  | 
			
				 
					Grids with line pitch of 500微米  | 
			
				 
					個  | 
		
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					R4  | 
			
				 
					Grids with line pitch of 250微米  | 
			
				 
					個  | 
		
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					R10  | 
			
				 
					Grids with line pitch of 100微米  | 
			
				 
					個  | 
		
| 電話 010-52571502 010-51248120 郵箱 hedebio@163.com  |